1、负责Si基LED相关的GaN/ITO刻蚀工艺开发；
2、负责Si基LED金属刻蚀工艺开发；
3、根据器件性能要求，优化刻蚀工艺；

教育程度:硕士
工作经历:
3年及以上
1、熟练使用干法刻蚀设备，具有独立的刻蚀工艺开发经验；
2、熟练并掌握GaN刻蚀；
3、熟练并掌握Au、Cu、Pt等刻蚀；
所需专业:半导体相关专业
其他要求:良好的的协调能力和沟通能力，能精确传达信息并接受协助
具有一定抗压能力，能够积极承担领导布置的相关任务
语言要求:英语流畅